神奈川県川崎市に本社を置く株式会社AndTech（代表取締役社長：陶山　正夫）は、研究開発支援向けZoom講座の一環として、「半導体製造プロセス　イオン注入・アニール技術」講座を2026年11月26日に開講する。半導体製造プロセスにおけるイオン注入およびアニール技術の課題解決ニーズの高まりに対応する。MOSトランジスタの微細化に伴う不純物領域形成から、先端の構造に対応する技術までを網羅して解説する予定だ。

本セミナーは「半導体製造プロセスにおけるイオン注入・アニール技術の基礎と最新動向 ～CMOS微細化・ドーパント活性化・化合物半導体へのイオン注入・イオン注入で必要となる解析技術～」をテーマに開催される。

MOS ICの微細化・高性能化と不純物領域形成の関係性をはじめ、不純物のイオン注入技術の原理や装置構造、微細化に伴う課題への対策を取り上げる。さらに、イオン注入によって生じる結晶欠陥を回復させるアニール技術の手法や過程、MOS IC以外のデバイスへの適用例や解析技術についても講義が行われる。

講義プログラムの内容

当日の講義では、以下の5つの項目を中心としたプログラムが予定されている。

1. CMOS ICの微細化（構造変化への対応、高性能化・高集積化のための構造、短チャネル効果の対策など）
2. イオン注入技術（原理と装置構造、CMOS ICでの適用、イオン注入に伴う問題と対策）
3. アニール技術（電気炉・RTA・フラッシュランプ・レーザーなどの手法、活性化過程、結晶回復など）
4. その他のイオン注入技術とアニール技術（CMOSイメージセンサー、パワーデバイス、化合物半導体など）
5. イオン注入に関連する解析技術（イオン注入量モニター、濃度分布解析、結晶性解析、汚染物質解析など）

講義の最後には質疑応答の時間も設けられている。

開催形式と受講案内

セミナーはWEB会議ツールのZoomを利用したライブ配信形式で実施される。

• 開催日時：2026年11月26日（木） 10:00-17:00
• 講師：サクセスインターナショナル株式会社　技術顧問 鈴木　俊治 氏
• 参加費：60,500円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
• 詳細URL：https://andtech.co.jp/seminars/1f19b73b-d89d-6450-8db0-064fb9a95405

本記事は株式会社AndTechの発表をもとに作成。

Dellows News編集部

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