神奈川県川崎市に本社を置く株式会社AndTech（代表取締役社長：陶山　正夫）は、研究開発支援向けオンライン講座の一環として、シルセスキオキサンの基礎から応用までを解説するセミナーを2026年11月24日に開講する。近年高まる材料開発の課題解決ニーズに対応し、構造や合成、物性の基礎をはじめ、POSSによる有機―無機ハイブリッド化や分子設計、評価手法などを取り上げる。講習会はWEB会議ツール「Zoom」を用いたLive配信形式で実施される予定となっている。

4部構成で基礎化学から産業応用までを解説

本講座では、大学や企業の専門家が講師を務め、全4部構成で講義が行われる。

第1部「シルセスキオキサン化学の基礎」では、群馬大学　物質・環境部門 海野　雅史 氏が登壇し、ケイ素の元素特性や資源、合成法、卓越した物性や応用例などについて基礎から解説する。

第2部「かご型シルセスキオキサンの概要と機能材料開発の最近の動向 〜構造，特性，合成など〜」では、京都大学　大学院工学研究科 田中　一生 氏が、かご型シルセスキオキサン（POSS）を用いたハイブリッド化技術や物性のトレードオフ両立事例などを紹介する。

第3部「シルセスキオキサン微粒子を基盤とした自己修復有機・無機ハイブリッド材料の開発」では、山形大学　教授 森　秀晴 氏が、多官能性シルセスキオキサン微粒子の合成や、自己修復機能と力学物性を両立させたハイブリッド材料への展開を講義する。

第4部「シルセスキオキサンを利用した新素材の開発とその応用」では、東亞合成株式会社　製品研究所／主査 岩瀬　賢明 氏が、一般的な特性の概説に加え、同社製品である「シルセスキオキサン誘導体SQシリーズ」の特徴やコーティング材料への応用事例、耐熱性向上に向けた分子設計などを説明する。

幅広い技術課題と材料設計のノウハウを網羅

本セミナーでは、ケイ素化合物の性質やシロキサン・シルセスキオキサンの合成法、構造規制による物性向上のポイントなどを体系的に扱う。また、光学材料のニーズとトレードオフ課題への対策、複合材料・ハイブリッド材料の分析手法やトラブル時の対処法についても取り上げる。

さらに、自己修復ハードコート材料やイオン伝導性材料の合成・用途展開、シルセスキオキサン微粒子を活用した分子設計など、次世代の高機能材料開発に直結する実践的な知見が提供される構成となっている。

開催概要

• セミナー名：シルセスキオキサンの基礎・合成・分子設計と高機能有機－無機ハイブリッド材料への応用 ～POSS、光学・自己修復・イオン伝導・ハードコート・耐熱コーティング～
• 開催日時：2026年11月24日（火） 10:30-17:05
• 受講形式：Zoomを利用したライブ配信（申し込み後にURLを送付）
• 参加費：66,000円（税込）※電子にて資料配布予定
• 詳細URL：https://andtech.co.jp/seminars/1f1a044d-c7fc-66a0-be4f-064fb9a95405

主催企業について

株式会社AndTechは、化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など幅広い分野の研究開発を支援するサービスを展開している。技術講習会やセミナーの開催をはじめ、講師派遣、出版、コンサルタント派遣、市場動向調査、ビジネスマッチングなどの事業を手がけている。

• 公式サイト：https://andtech.co.jp/

本記事は株式会社AndTechの発表をもとに作成しました。

Dellows News編集部

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