株式会社ニューフレアテクノロジーは、フォトマスク関連技術の国際会議「SPIE Photomask Technology +Extreme Ultraviolet Lithography」に参加することを発表した。同会議を通じて、関連技術分野における取り組みを進める。

株式会社ニューフレアテクノロジーは、フォトマスクおよび極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術を対象とする国際会議「SPIE Photomask Technology +Extreme Ultraviolet Lithography」への参加を明らかにした。

会議の概要と位置付け

「SPIE Photomask Technology +Extreme Ultraviolet Lithography」は、フォトマスク関連技術やEUVリソグラフィに関する専門的な議論が行われる国際会議である。半導体微細化を支える技術分野として関係者による発表や情報交換が予定されている。

発表企業について

今回の参加を発表した株式会社ニューフレアテクノロジーの基本情報は以下の通りである。

• 企業名: 株式会社ニューフレアテクノロジー

本記事は株式会社ニューフレアテクノロジーの発表（2026年9月15日 15時15分公開）をもとに作成しています。

Dellows News編集部

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