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Patentfield、2026知財・情報フェアで特許特化の独自LLMを初公開へ

AI特許総合検索・分析プラットフォームを運営するPatentfield株式会社は、2026年9月16日から18日に東京ビッグサイトで開催される「2026知財・情報フェア&コンファレンス」に出展する。

ブースでは、経済産業省とNEDO主催のプログラムで受賞した成果を引き継ぐ特許ドメイン特化の独自LLM「Dシリーズ」を初公開する。また、特許調査の工程を一貫して支援する新機能「AI検索サポート(仮)」などの参考出展も予定している。

独自LLM「Dシリーズ」と新機能を参考出展

Patentfieldは2026年4月、経済産業省とNEDOによる懸賞金活用型プログラム「GENIAC-PRIZE」の領域02「官公庁等における審査業務等の効率化に資する生成AI開発」において、特別賞「技術新規賞」を受賞した。

今回の展示会では、受賞対象となった「審査官の思考プロセスを再現する特許先行技術調査支援AIシステム」の開発成果を引き継ぎ、自社開発を進めている独自LLM「Dシリーズ」を初公開する。

あわせて、特許調査ワークフローの各工程を生成AIが一貫して支援する新機能「AI検索サポート(仮)」を参考出展する。同機能は、AIによる同義語拡張や特許分類の提案、検索式の生成・改良のほか、公報や図面の読解支援、出願人の名寄せ、検索母集合の解説および絞り込みなどを行う。

ブースでは、国内外あわせて8,000万件の特許を「用途・課題・効果・特徴」の4観点で要約・構造化した「AIサマリー」を収録するAI特許総合検索・分析プラットフォーム「Patentfield」を紹介する。海外公報(US/EP/WO/CN/KR/TW)を日本語で扱える「AIサマリーグローバル」の体験も可能となっている。

また、生成AI調査・分析オプション「Patentfield AIR」も展示する。同オプションは、AIサマリーとの連携により生成AIへ渡すテキスト量を公報全文の約45分の1に圧縮し、コストと処理時間を節約しながら大量特許の一括分析や、インターネット上の情報を含めた特許分析を支援する。

会期中は毎日、出展者プレゼンテーションやブース内セミナーが実施される。

出展者プレゼンテーションでは「特許調査/分析の生成AI活用:Patentfieldの新たな一手」と題した講演が行われる。聴講には専用サイトからの事前登録が必要となる。日程は以下の通り。

  • 9月16日(水)11:25〜12:10(P4会場)
  • 9月17日(木)12:35〜13:20(P5会場)
  • 9月18日(金)12:35〜13:20(P5会場)

また、小間番号「3-A28」の同社ブース内では、事前申込不要・参加無料のブース内セミナーが1時間に1回の頻度で開催され、専門スタッフによる実機デモや無料トライアルの案内も随時行われる。

出展および会社概要

出展および発表企業の概要は以下の通り。

  • イベント名:2026知財・情報フェア&コンファレンス
  • 会期:2026年9月16日(水)〜18日(金)
  • 会場:東京ビッグサイト 東3ホール(小間番号:3-A28)
  • 社名:Patentfield株式会社
  • 本社所在地:京都市中京区
  • 共同CEO:村上直也、石津孝祐

本記事はPatentfield株式会社の発表をもとに作成。

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