神奈川県川崎市に本社を置く株式会社AndTechは、研究開発支援向けZoom講座として「原子層堆積法（ALD）」に関するセミナーを2026年11月20日に開講します。

本講座では、原子層堆積法（ALD）の基礎から吸着・表面酸化の反応機構、モニタリング、成膜条件の調整、室温三次元成膜ALDの最新動向までを解説します。講師には山形大学 大学院理工学研究科の廣瀬 文彦 氏が登壇します。

原子層堆積法は、ナノ単位の酸化物薄膜を複雑な形状に対しても均一に形成できる技術としてLSI製造に利用されています。近年はLSIだけでなく、MEMS、太陽電池、機械部品、PETボトルへのコーティングなど幅広い分野での活用が検討されています。

高品質な膜を形成するためには、表面反応を中心とした機構の理解やモニタリング、適切な材料選択およびプロセス調整に関する知識が必要とされています。本セミナーでは、山形大学が進めてきた原子層堆積法のその場観察や低温化研究の成果をもとに、反応機構の理解や室温三次元成膜技術について解説が行われます。

講座のプログラム構成

講義では、原子層堆積法の基礎知識をはじめ、原料分子の吸着反応や酸化反応などの表面反応機構、各種モニタリング技術について取り上げられます。

さらに、山形大学が開発した室温三次元成膜ALDに関する研究成果として、SiO2、TiO2、Al2O3、HfO2、Fe2O3などの室温形成事例や、連続吸着法による複合酸化膜形成、イオン吸着フィルターやペットボトルコーティングへの応用事例などが紹介される予定です。

• テーマ：原子層堆積法（ALD）の基礎と高品質膜の達成に向けた反応機構の理解および室温三次元成膜ＡＬＤの最新動向と応用
• 開催日時：2026年11月20日（金） 13:00-17:00
• 講師：山形大学 大学院理工学研究科 廣瀬 文彦 氏
• 形式：Zoomを利用したライブ配信
• 参加費：50,600円（税込） ※電子にて資料配布予定
• 詳細URL：https://andtech.co.jp/seminars/1f19ac9d-9a2e-65aa-9ba9-064fb9a95405

株式会社AndTechについて

代表取締役社長を陶山 正夫が務める株式会社AndTechは、化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など多様な分野のR&Dを対象に、技術講習会や出版、コンサルタント派遣などの研究開発支援サービスを展開しています。

本記事は株式会社AndTechの発表をもとに作成しました。

Dellows News編集部

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