ニューフレアテクノロジー、国際会議MNE2026で曲線パターンマスク研究を発表
ニューフレアテクノロジー（NFT）は、2026年9月21日から24日までスイス インターラーケンで開催された「MNE2026」(The 52nd International Conference on Micro and Nano Engineering)に参加しました。
同社は今回の会議において、曲線パターンマスクに対する寸法測定用走査電子顕微鏡測定の影響について、1件のポスター発表を行いました。
微細加工技術を幅広く扱う国際会議「MNE2026」
「MNE2026」(The 52nd International Conference on Micro and Nano Engineering)は、iMNEs（International Micro and Nano Engineering Society）が毎年開催している国際会議です。微細加工技術およびその関連デバイスや応用技術を扱っています。
本会議は半導体分野に限らず、微細加工技術、ナノ構造、各種関連デバイスも幅広く対象としており、ナノ加工、MEMS、微細構造形成に関する研究成果も発表されます。
曲線パターンマスクに対する測定影響についてポスター発表
ニューフレアテクノロジー（NFT）は、曲線パターンマスクに対する寸法測定用走査電子顕微鏡測定の影響に関する研究成果をポスター形式で発表しました。
発表の概要は以下の通りです。
- 発表形式・番号: Poster S10A-T1-P-4
- 発表題目: “CD-SEM measurement impact on curvilinear mask patterns: Resist shrinkage behaviour and its spatial dependence”
- 著者: Hikari Ogawa, Hideki Matsui, Yoshinori Kojima (NuFlare Technology, Inc.)
- 発表者: Hikari Ogawa
関連情報
会議に関する詳細情報は、以下の関連リンクで確認できます。
- MNE2026 関連リンク: https://mne2026.imnes.org/
本記事はニューフレアテクノロジー（NFT）の発表をもとに作成しています。
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