テクセンドフォトマスク株式会社は、公益社団法人応用物理学会 ナノインプリント技術研究会が主催する国際会議「NNT2026」に出展し、講演を行います。同会議は2026年10月13日（火）から16日（金）までの4日間、宮城県仙台市の仙台サンプラザで開催されます。同社は会場内でナノインプリント用マスターモールドなどを紹介するブースを出展するほか、ナノインプリントリソグラフィの製造技術に関する解説を行います。

国際会議「NNT2026」の概要

NNT2026は、ナノインプリント・ナノプリント技術に関する研究成果や最新技術を発表、共有する場として開催され、大学・研究機関、企業などが参加します。会議ではプロセス、材料、装置に加え、エレクトロニクス、光学、バイオテクノロジー、エネルギーなどの分野における応用まで、幅広いテーマが取り上げられます。

開催概要は以下の通りです。

• 日程：2026年10月13日（火）から16日（金）
• 場所：仙台サンプラザ (宮城県仙台市宮城野区榴岡5-11-1)
• 公式サイト: https://nanoimprint.jp/nnt2026/

テクセンドフォトマスクの出展ブースでは、最先端の電子線リソグラフィと革新的なエッチング技術によって実現するナノインプリント用マスターモールドと、ナノインプリント試作・開発サービスを紹介します。

• 出展期間: 2026年10月14日(水)、15日(木)
• ブース番号: 6

講演では、AR/VR用光学部品においてデバイスの性能に不可欠な、ナノスケールの微細構造の形成に活用されているナノインプリントリソグラフィ（NIL）について、その基盤となるマスターモールドの製造技術を紹介します。複雑なパターン形状やプロファイルをマスターモールドに直接形成する同社の技術と、それによるナノインプリントリソグラフィプロセスの簡素化について解説が行われます。

• 日時: 2026年10月15日(木) 12時5分から
• テーマ: NIL Mastering: Enabling the Next Generation of Nano Manufacturing
• 講演者: Bríd Connolly（テクセンドフォトマスク マーケティングマネージャー。ダブリンシティ大学で応用物理学の学位を取得）

東京都港区に本社を置き、代表取締役 社長執行役員 CEOを二ノ宮 照雄が務めるテクセンドフォトマスク株式会社は、半導体製造工程に不可欠なフォトマスクを製造・販売しています。北米・欧州・アジア・日本に9つの製造拠点を展開し、外販フォトマスク市場においてグローバルシェアNo.1を有しています。現在はフォトマスク事業で培った技術を基盤に、ナノインプリントモールドをはじめとする微細加工分野へ事業領域を拡大しています。

• 公式ウェブサイト：https://www.photomask.com/

本記事はテクセンドフォトマスク株式会社の発表をもとに作成しています。

Dellows News編集部

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