株式会社Ａ＆Ｄホロンホールディングスの連結子会社である株式会社ホロンは、収差補正SEMを活用したフォトマスク欠陥修正技術に関する研究成果を発表した。2026年９月８日から11日に米国カリフォルニア州モントレーで開催されているフォトマスク技術分野の国際学会「SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography 2026」において報告された。今回の発表ではフォトマスク欠陥修正における各種性能評価を実施し、実用性を確認した結果を公表している。

研究発表の概要と実用性の確認

発表された内容は、フォトマスク欠陥修正における各種性能評価を行い、実用性を確認した研究成果の一部である。東京都立川市に本社を置き張 晧氏が代表取締役を務める株式会社ホロンでは、CD-SEMで培ってきた電子光学技術を応用し、収差補正機能を備えたSEMカラムを搭載したフォトマスク欠陥修正装置の開発を進めている。

技術開発の背景と今後の取り組み

近年、フォトマスク欠陥修正技術はフォトマスクの歩留まり向上において重要な役割を担っている。リソグラフィ性能向上を目的とした曲線パターン（Curvilinear Pattern）の採用拡大などを背景として、より高い修正精度や形状忠実性が求められている状況がある。同社グループは今後も電子ビーム応用技術のさらなる高度化を通じ、半導体関連分野における新たな価値創出に取り組むとしている。

関連情報と問い合わせ先

株式会社ホロンは、電子ビーム技術を活かし、半導体およびナノテクノロジー分野への寸法測定・欠陥レビュー技術を提供している。フォトマスクの観察・計測で培ったノウハウを活用し、超微細加工されたHDD/MEMS/ナノインプリントなどの分野へ装置を開発、販売している。

今回の研究成果の概要や技術的背景、および企業情報は以下の通りである。

• 技術詳細リリースURL：https://andholon.com/wp-content/uploads/2026/09/news_20260910_jp.pdf
• 株式会社ホロン Webサイト：https://www.holon-ltd.co.jp/
• 問い合わせ先：株式会社Ａ＆Ｄホロンホールディングス 経営企画部　広報IR課TEL：03-5391-6124

本記事は株式会社Ａ＆Ｄホロンホールディングスの発表をもとに作成。

Dellows News編集部

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